拓荆科技

拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月，主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司于2020年在北京、上海、海宁成立三家子公司。

公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，拥有自主知识产权，产品主要应用于集成电路晶圆制造，以及TSV封装、光波导、Micro-LED、OLED显示等技术领域。公司在北京、上海、武汉、合肥、天津、台湾等20多个地区的近40条生产线都设有技术服务中心，为客户提供每周7天，每天24小时的技术服务。

公司现有十余名海外高层次专家，结合国内优秀人才，形成了一支国际化的团队，具备高科技研发实力及管理经验。通过多年技术积累，公司已形成自主知识产权的核心技术群及知识产权体系，被国家知识产权局评为“国家知识产权示范企业(2019-2022)”。

公司总部坐落于沈阳市浑南区，占地80亩，拥有现代化办公大楼及高等级洁净厂房，总建筑面积达40,000平方米。第一期生产能力可实现年产100台套，全部投产可达350台套设备，可以满足下游客户增产需求。公司已通过ISO9001、ISO14001、ISO45001体系的认证，并拥有覆盖全球的供应商网络。